CX-9800（T）全譜直讀光譜儀配備高性能檢測器。儀器體積小、穩定性好、檢測限低、分析速度快、運行成本低、操作維護方便，是控制產品質量的理想選擇。
1、可測定包括痕量碳（C），磷（P）,硫（S）元素,適用于多種金屬基體，如：鐵基，鋁基，銅基，鎳基，鉻基，鈦基，鎂基，鋅基，錫基和鉛基。全譜技術覆蓋了全元素分析范圍，可根據客戶需要選擇通道元素；
2、分析速度快捷，20秒內測完所有通道的元素成分。針對不同的分析材料，通過設置預燃時間及標線，使儀器用短的時間達到優的分析效果；
3、光學系統采用真空恒溫光室， 激發時產生的弧焰由透鏡直接導入真空光室，實現光路直通,消除了光路損耗，提高檢出限，測定結果準確，重現性及長期穩定性好；
4、特殊的光室結構設計，使真空室容積更小，抽真空速度不到普通光譜儀的一半；
5、自動光路校準，光學系統自動進行譜線掃描，確保接收的正確性，免除繁瑣的波峰掃描工作。儀器自動識別特定譜線，與原存儲線進行對比，確定漂移位置，找出分析線當前的像素位置進行測定；
6、開放式的電極架設計，可以調整的樣品夾，便于各種形狀和尺寸的樣品分析；
7、工作曲線采用國際標樣，預做工作曲線，可根據需要延伸及擴展范圍，每條曲線由多達幾十塊標樣激發生成，自動扣除干擾；
8、HEPS數字化固態光源，適應各種不同材料?；
9、固態吸附阱，防止油氣對光室的污染，提高長期運行穩定性；
10、銅火花臺底座，提高散熱性及堅固性能；
11、合理的氬氣氣路設計，使樣品激發時氬氣沖洗時間縮短，為用戶節省氬氣，氬氣消耗不到普通光譜儀的一半；
12、采用鎢材料電極，電極使用壽命更長，并設計了電極自吹掃功能，清潔電極更加容易；
13、高性能DSP及ARM處理器，具有超高速數據采集及控制功能并自動實時監測光室溫度、真空度、氬氣壓力、光源、激發室等模塊 的運行狀況；
14、儀器與計算機之間采用以太網連接，抗干擾性能好，外部計算機升級與儀器配置無關，使儀器具有更好的適用性；
15、核心器件全部原裝進口，保證了儀器優秀品質。
CX-9800直讀光譜分析儀擁有超寬泛的波長范圍，覆蓋金屬材料全元素的分析能力，集成度高，檢測精度好，性能穩定。
可升級開通N（氮）元素，升級拓展CX-9800PRO機型，可實現Li（鋰）、Na（鈉）、K（鉀）等元素的檢測。
全譜光譜儀技術，替代傳統光電倍增管模擬技術，通道不受限制，儀器體積小，移動安裝方便。激發時產生的弧焰由透鏡直接導入真空光室，實現光路直通，消除了光能量損耗。
核心部件來自全球知名供應商，保證了儀器性能穩定可靠。
HEPS數字化火花光源，極大地提高了光源系統的放電穩定性，適應不同材料的分析需要。
特制固態吸附阱，有效防護光學系統，長期免維護。
特殊的光室結構設計，腔體小，節省抽真空時間。
高端ARM處理器，高速數據同步采集處理，20s即可完成一次檢測。同一樣品不同時段分析，可獲得良好的數據一致性。
擴展曲線，增加基體無需改變硬件。
低能耗設計，耗電量少、氬氣消耗低。
1.光譜儀光學系統
帕邢-龍格結構，羅蘭圓光學系統
光室溫度：自動控制恒溫：34°C±0.1°C
外部入射窗口設計，方便清洗及更換
優秀的漂移校正功能得益于自動尋峰技術（精確度達到0.1像素）
紫外波段靈敏度，得益于全新改良的真空技術?
2. 數字等離子發生器
全數字等離子火花光源技術
高效的性能得益于緊湊的設計和半導體控制技術
高能預燃技術(HEPS)
激發參數可通過用戶界面由用戶根據實際需求自定義進行設置
頻率100-1000Hz
電流1-400A
3. 優化的樣品臺
開放式樣品臺設計，滿足大樣品測試要求
3.4mm樣品臺分析間隙
“噴射電極”技術輕松應對小樣品及復雜幾何形狀樣品
低氬氣消耗，可設置待機時無須待機流量
可定制異形樣品適配器
不同基體無須更換火花臺
良好灰塵顆粒的雜質排出系統設計
牢固的銅合金樣品臺散熱效果好
4. 計算機
品牌電腦
處理器：AMD雙核64X25200+
內存：8G
硬盤：＞250GB
顯示器：23.6寸液晶顯示器
5. 讀出系統
數據以多種數據形式存儲
可接駁各種標準打印設備
數據可通過互聯網遠程發送傳輸
6. 軟件系統
Windows操作系統
中文或英文光譜儀操作軟件
可選數據維護程序
7. 氬氣要求
純氬氣99.999%
氬氣減壓閥（專配減壓閥）
鋼瓶氣壓≥1MPa
出口儀器氣壓≥0.5MPa
8. 電源要求
AC220V/50Hz
最大功率880W（主機350W，真空泵500W，電腦30W）
平均功率600W（主機350W，真空泵500W，電腦30W）
待機功率60W
16A慢熔保險絲
9. 尺寸
臺式高：460mm，長：800mm，寬：700mm
重量：80kg?
注：僅供參考，具體按客戶要求配置。
